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高濃度臭氧產生機

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系列名稱	臭氧產能	冷卻方式	設計說明與應用
H Series	‧H-200 280g/h@210g/Nm3 45g/h @280g/Nm3 ‧H-400 480g/h@210g/Nm3 70g/h @280g/Nm3 45g/h @310g/Nm3 (外供氧氣源)	‧水冷式	‧本系列特針對半導體應用所設計，以供應高濃度臭氧氧體為主。 ‧模組式設計可提供大產量、高濃度的臭氧機。 ‧PLC人機介面操控，可彈性調整臭氧產量與氧氣需求。 ‧已取得國際安全標準Semi S2/S8與CE認證。

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