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Ozonated Water Ultra Clean System
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‧OWUCS-S
28-44ppm @ 30-6L/m
‧OWUCS-H+H 200
20-105ppm @ 60-5L/m
‧可依實際需求搭配H系列的臭氧機
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l 本套高濃度臭氧水設備專為半導體相關產業，其關鍵技術是具備可產生100ppm高濃度、無雜質、產量穩定的臭氧機和將高濃度臭氧氣體溶於超純水。
l 相較於其他以電解方式製造臭氧的機台，愛樹所產生濃度更高，流量更大的臭氧水。
l 無高成本的耗材，以提供客戶使用產能更好、更具經濟效益的生材設備。
l 取得國際安全標準Semi S2/S8與CE認證。
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